EFECTO DE LOS PARáMETROS DE DEPóSITO DE SILICIO POLIMORFO POR TéCNICA PECVD SOBRE LAS PROPIEDADES QUíMICAS, NANO-ESTRUCTURALES, OPTOELECTRóNICAS Y DE FOTO-DEGRADACIóN PARA SU IMPLEMENTACIóN EN LA FABRICACIóN DE CELDAS SOLARES

 

C. Álvarez-Macías, G. Santana, T. Viveros-García, E. Barrera-Calva

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